Uwekaji wa mvuke halisi (PVD) ni mchakato unaotumika kutengenezea mvuke wa chuma unaoweza kuwekwa kwenye nyenzo zinazopitisha umeme kama mipako nyembamba ya chuma safi inayofuatwa sana au aloi. Mchakato unafanywa katika chumba cha utupu kwenye utupu wa juu (10–6 torr) kwa kutumia chanzo cha arc cathodic.
Ni hatua gani tatu katika mchakato wa PVD?
Michakato ya msingi ya PVD ni uvukizi, upakaji maji na upako wa ion.
Kuna tofauti gani kati ya PVD na CVD?
PVD, au uwekaji wa mvuke halisi, ni mchakato wa upakaji wa mstari wa mwonekano ambao unaruhusu kupaka rangi nyembamba na kingo zenye ncha kali. CVD, kwa upande mwingine, inasimamia utuaji wa mvuke wa kemikali na ni mnene zaidi ili kulinda dhidi ya joto. PVD kwa kawaida hutumika kwa zana za kumalizia, ilhali CVD huthibitisha kuwa bora zaidi kwa ukali
Je, ni matumizi gani ya kawaida ya uwekaji wa mvuke?
PVD hutumika katika utengenezaji wa bidhaa mbalimbali, ikiwa ni pamoja na vifaa vya semiconductor, filamu ya PET iliyoangaziwa kwa puto na mifuko ya vitafunio, mipako ya macho na vichujio, zana za kukata zilizopakwa kwa usanifu wa chuma na upinzani wa kuvaa, na filamu zinazoakisi sana kwa maonyesho ya mapambo.
Ni nini dhana kuu ya uwekaji wa mvuke halisi na kemikali?
Tofauti Kati ya Mkao wa Mvuke Mwilini (PVD) & Uwekaji wa Mvuke wa Kemikali (CVD) Uwekaji wa Mvuke Mwilini (PVD) na Uwekaji wa Mvuke wa Kemikali (CVD) ni michakato miwili inayotumika kutoa safu nyembamba sana ya nyenzo, inayojulikana kama filamu nyembamba, kwenye substrate.
